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中国光刻机技术的一次言论升级

佚名编辑：王珂玥发布于：2023-09-15 15:30 PConline原创

和一丝丝凉爽进入9月的秋季相比，国产技术仰望版的“疯马秀”却是迎来一次次的燥热刷新记录。例如，华为有了的一款不用介绍配置、不开发布会炫技，便有着无数消费者疯抢的手机，本周这一模式的另一款华为手机也上线了。华为刚成为民族之光的本“光”没两天，风头又被光刻机抢走了。这可是一个真的压在国人心头的国产“光”。对此，粗略的看了下，本周的中国光刻机技术突破，在言论方面已经有了不少升级。

可以不用光刻机？

多年来对卡脖子技术的科普，已经让大家知道，在芯片制造产业中，光刻机是其中必不可少的一环。

但，近日，一家上海创消新技术发展有限公司，在天眼查App显示了一个“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”的专利。摘要显示，该发明涉及芯片设计及制造，方案是：按5nm蚀刻线宽设计芯片版图，设计蚀刻掩模版后，用激光直写光刻机刻出蚀刻掩模版；晶圆准备好后将蚀刻掩模版紧靠晶圆上表面，用等离子体进行干法蚀刻，蚀刻结束后移去蚀刻掩模版，清洁晶圆，进行后续常规的芯片制造步骤。

这项发明的亮点在于，不用EUV光刻机或DUV光刻机，不需要光刻过程，直接蚀刻就可以制造5纳米芯片。

也许是这一认知太颠覆传统教育科普，这一消息虽说已经几家媒体披露，但没引起多大反响。

天眼查显示，上海创消新技术发展有限公司成立于2019年3月，法定代表人为刘明革，注册资本50万人民币，经营范围包括电子技术、化工技术、建筑技术、生物技术领域内的技术开发等，由刘明革和刘佳慧共同持股。

“光刻机已向国内龙头芯片企业销售。”

还是回到传统认知赛道：光刻机依旧是芯片制造其中必不可少的一环。

前两天一家上市公司，却是凭着“光刻机已向国内龙头芯片企业销售”一句话，引爆了20CM的涨停。

这是苏大维格在互动平台中对投资者的一则回复中的话，立刻引起市场高度关注。苏大维格在这句话的后半句解释：“并已实现向日本、韩国、以色列等国家的出口。”同时苏大维格还表示，公司向国内相关芯片光刻机厂商提供了定位光栅尺部件。

显然，苏大维格深谙“国产之光”的流量密码。对此，苏大维格后续的主要压力是经得起国人对“国产之光”的推敲才成。

还没等到ASML会表现出的“瑟瑟发抖”，苏大维格的后续澄清中表示，其销售的是激光直写光刻机，似乎与芯片光刻机没有关系。

苏大维格在回复某些媒体（e公司、中国基金报等）中解释，其实在2021年年报、2022年年报和2023年半年报‘管理层讨论与分析’中早就有提及。

所以，苏大维格说错了么？还是，大家真的要思考，自己真的了解光刻机么？

中国重新定义高端光刻机了？

不用光刻机，太颠覆认知了，接受不了，所以不关注，情有可原；

龙头芯片企业用了国产光刻机，原来还有与芯片光刻机光刻机，科普不深入引起误会，也在所难免；

那转瞬之间，一篇2022年发表的论文突然就在社交界流传开来，更有网友从论文中嗅探出了，中国重新定义高端光刻机的论调——这一更为通俗的解释更是刷屏了相关朋友圈。

论文叫做《稳态微聚束加速器光源》，作者是清华大学教授唐传祥。不过，仔细查询发现，作者在2021年对这一研究就做出过回应，作者解释这项研究“潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源”。即，这只是中国光刻机持续科技攻关中一个有望解决的难题，还有很长的探索距离。目前，尚无作者对这一事件作出最新回应。

至此，一周内，中国光刻机技术至少率先在言论上有了不少升级。

相比，5年前一些媒体的流量“佳作”如《国产光刻机伟大突破，国产芯片白菜化在即》《突破荷兰技术封锁，弯道超车》《厉害了我的国，新式光刻机将打破“芯片荒”》，如今大家更能分辨站得住脚的“真科技报道”。

光刻机的民族之光问题，下一个接棒的会是谁呢？

ASML CEO：完全孤立中国是没有希望的

至少，目前来看中国光刻机的言论升级不是空穴来风，就连ASML也不得关注中国在这方面的趋势发展。例如，据《观察者网》报道，ASML CEO温彼得（Peter Wennink）在近日荷兰当地电视节目Nieuwsuur上表示，“完全孤立中国是没有希望的。如果我们不分享技术，他们就会自己去研究。”“中国有14亿人，其中很多人都很聪明。他们会提出我们还没想到的解决方案。你在迫使他们变得非常创新。”

ASML此前向《中国日报》确认，目前ASML已向荷兰政府提出TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统的出口许可证申请，在今年内仍可向中国出口部分高端浸润式光刻系统。

文/王珂玥

文章仅代表作者意见，不代表太平洋科技立场

中国光刻机卡脖子技术

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